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Silicene on metallic quantum wells - an efficient way of tuning silicene-substrate interaction

机译:金属量子阱上的硅氧烷 - 一种有效的调谐方式   硅氧烷 - 底物相互作用

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摘要

We propose a powerful method of controlling interaction between silicene anda substrate utilizing quantum size effect, which allows to grow silicene withtailored electronic properties. As an example we consider silicene on ultrathinPb(111) layers, and demonstrate how the properties of silicene, including thebinding energy, and the Dirac bands, can easily be tuned by quantum well statesof the substrate. We also discover a novel mechanism of protecting the Diracelectrons from the influence of the substrate. This is associated with specialarrangement of a part of Si atoms in silicene. These findings emphasize theessential role of interfacial coupling and open new routes to createsilicene-like two-dimensional structures with controlled electronic properties.
机译:我们提出了一种利用量子尺寸效应控制硅与基底之间相互作用的有力方法,该方法可以生长具有特定电子性质的硅。作为示例,我们考虑了超薄Pb(111)层上的硅,并演示了如何通过衬底的量子阱状态轻松调节硅的性质(包括结合能和Dirac能带)。我们还发现了一种保护狄拉克电子不受基材影响的新颖机制。这与硅中的一部分硅原子的特殊排列有关。这些发现强调了界面耦合的基本作用,并开辟了新途径来创造具有可控电子性能的类硅树脂二维结构。

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